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高低溫循環器主要應用于高壓反應釜、中試生產不銹鋼反應釜、雙層玻璃反應釜、夾套反應釜、微通道反應器、反應裝置、組合化學等冷熱源動態恒溫控制以及制藥行業中的低溫蒸餾、精餾、萃取等設備中。

高低溫循環裝置主要應用于：高壓反應釜、中試生產不銹鋼反應釜、雙層玻璃反應釜、夾套反應釜、微通道反應器、反應裝置、組合化學等冷熱源動態恒溫控制以及制藥行業中的低溫蒸餾、精餾、萃取等設備中，該系列可提供 -80℃~+250℃的溫度控制范圍，特殊可升級高溫至300℃，特別適用于快速放熱和吸熱的化學反應試驗。

制冷加熱控溫系統在實驗室精確控溫方面所展現出的關鍵技術主要包括了高精度的PID溫控算法、高性能的制冷與加熱組件、絕熱技術和智能遠程控制功能。

半導體溫控系統主要由加熱循環系統、冷卻系統、控制系統、箱體等組成。加熱循環系統包括循環泵、電加熱器、膨脹容器、排氣閥、單向閥、熱電阻、循環管道等組成。冷卻系統包括油水換熱器、油油換熱器（部分設備）、冷卻水電磁閥、高溫電磁閥等組成。控制系統采用PID控制技術，高清顯示屏，設有多項保護功能，確保設備安全運行。通過機組自身的加熱與冷卻，向外界輸送載熱流體，滿足工藝條件要求。

TCU溫度控制系統是一種集成了溫度傳感器、控制器和加熱/冷卻裝置的設備。它通過監測環境溫度并根據預設的溫度設定值自動調節加熱或冷卻裝置，以達到所需的溫度控制目標。

　高低溫一體循環機結合了高低溫控制技術與循環技術，能夠在溫度條件下，提供穩定的溫度環境，并且可以實時控制和調整溫度。這一設備廣泛應用于材料科學、生物醫學、化學物理等領域，為科研人員提供了有力的實驗條件支持。

晶圓生產完成后，需要對其進行各種參數的檢測，在檢測的過程中，需要在不同溫度下進行測試，晶圓測試用溫控設備（晶圓測試溫控系統）是高精度，高分辨率，高穩定性的控制設備。